Вольфрамовый лист 5,2х160х200 мм ВА в Ельце

Точная плотность вольфрамового листа ВД при 25°С составляет приблизительно 19.25 г/см³. Это одна из самых высоких плотностей среди всех металлов, что обеспечивает его высокую эффективность в экранировании излучения и как материал с большой массой на единицу объема.

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.

Вольфрамовый лист используется в защите от ионизирующего излучения благодаря его высокой плотности и высокому атомному номеру. Эти свойства обеспечивают эффективное поглощение рентгеновского и гамма-излучения, применяясь в медицинском оборудовании и ядерной энергетике.

В высокотехнологичном прототипировании вольфрамовый лист используется для создания функциональных элементов, требующих высокой прочности и стабильности при экстремальных температурах. Это могут быть микронагреватели для датчиков, прототипы компонентов термоядерных реакторов или сверхтонкие мембраны.

Лист ВР-20 демонстрирует высокую стойкость к длительному контакту с расплавленной медью. Вольфрам и сплавы с рением имеют крайне низкую растворимость в меди, что минимизирует эрозию и диффузию, обеспечивая стабильность материала в таких условиях.

К вольфрамовому листу, учитывая его хрупкость при комнатной температуре, применимы виды формовки только при нагреве. Это включает горячую прокатку, гибку, штамповку и вытяжку при температурах выше 400-600°С, что обеспечивает необходимую пластичность материала.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.