Вольфрамовый лист 0,5 мм ВА в Ельце

Хрупкость вольфрамового листа толщиной 2.0 мм при изгибе при комнатной температуре приводит к его растрескиванию или разрушению. Для формовки или изгиба требуется предварительный нагрев до температуры выше хрупко-вязкого перехода (обычно > 400°С).

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.

Нестандартные области применения для вольфрамового листа толщиной 0.06 мм включают гибкие высокотемпературные нагревательные элементы, тонкопленочные мишени для напыления и электроды для миниатюрных электронных компонентов. Также он используется в радиационных окнах специализированных физических установок.

Преимущества использования листа ВА в качестве катодов заключаются в его высокой температуре плавления, низкой скорости испарения и стабильной термоэлектронной эмиссии при высоких температурах. Это обеспечивает долгий срок службы катодов и стабильную работу вакуумных приборов.

Стойкость вольфрамового листа к аммиачной атмосфере при 1500°С улучшается при использовании сплавов, где присутствие рения (например, ВР-20) стабилизирует структуру. Это снижает склонность к образованию нитридов вольфрама, хотя полное отсутствие реакции сложно достичь.

Поведение листа ВА и ВД в расплаве солей схоже, так как оба являются чистым вольфрамом. Они проявляют хорошую стойкость к нейтральным расплавам солей, но могут подвергаться коррозии в расплавах окисляющих солей или щелочных карбонатов при высоких температурах.

К вольфрамовому листу, учитывая его хрупкость при комнатной температуре, применимы виды формовки только при нагреве. Это включает горячую прокатку, гибку, штамповку и вытяжку при температурах выше 400-600°С, что обеспечивает необходимую пластичность материала.